Desde la elaboración de sus primeros bosquejos hasta la presentación de su colección cápsula en el Digital Couture Project-Epson New York Fashion Week 2017. En Santiago y NY, revista Paula acompañó en todas las etapas de su proceso creativo a la diseñadora chilena Daniela Hoehmann.
Rita Cox / Fotografía: Carolina Vargas Producción: Jazmín Cortés Maquillaje y pelo: Bernardita Silva
23 mar 2017 11:30 PM