Startup fundada por chilenos levanta inversión de US$8,5 millones en EEUU y quiere competir con Adobe

La empresa, fundada el 2018 en Nueva York, desarrolla herramientas creativas digitales usando inteligencia artificial (IA). Con esta última ronda de inversión, la startup alcanzó una financiación total de US$10,5 millones.




Runway, empresa con tres fundadores chilenos que desarrolla herramientas digitales para la industria creativa (cine, música, gráfica, etc.), acaba de cerrar una ronda de inversión “Serie A” por US$8,5 millones en Estados Unidos, levantamiento de capital que es liderado por Amplify Partners con la participación de Lux Capital y Compound, todos fondos de venture capital de NY y San Francisco. .

La startup nacida en 2018, luego que sus fundadores, Cristóbal Valenzuela, Alejandro Matamala y Anastasis Germanidis se conocieran mientras asistían a un postgrado en Nueva York, ha transformado la creación de contenido audiovisual, al lograr incluir tecnología de punta - como machine learning (aprendizaje automático)- a los procesos de edición y post producción de videos e imágenes. De hecho, sus fundadores han declarado que quieren competir con la gigante de esta industria, Adobe.

Con esta última ronda de inversión, la startup alcanzó una financiación total de US$10,5 millones; nuevo capital que le permitirá a la empresa, con oficinas en Brooklyn, el inicio de su siguiente fase de crecimiento, profundizando en sus equipos de investigación e ingeniería

“Avances e investigaciones recientes en inteligencia artificial están catalizando un nuevo paradigma de creación, donde la capacidad de generar contenido sintético y de automatizar los procesos de edición van a cambiar radicalmente cómo creamos y distribuimos videos, imágenes, audios, etc.”, explicó el fundador de Runway, Cristóbal Valenzuela. Además agregó: “Con Runway, estamos construyendo la columna vertebral para una nueva revolución creativa, permitiendo a artistas hacer cosas que eran imposibles hasta hace muy poco”.

En la actualidad, la comunidad de usuarios de Runway incluye diseñadores, cineastas y otros profesionales creativos dentro de empresas como R/GA, New Balance, Google e IBM; junto con haber sido adoptado por varias universidades internacionales para el desarrollo de sus enseñanzas, dentro de las cuales se encuentran Harvard, NYU, RISD y el MIT. En tanto en Chile, la Pontificia Universidad Católica (PUC,) Universidad Adolfo Ibáñez (UAI), y la Universidad de Las Américas (UDLA) han incorporado la plataforma en sus escuelas de diseño, animación y arquitectura.

Los usuarios de la comunidad de Runway ya han entrenado más de 50 mil modelos de Inteligencia Artificial en la plataforma, y han subido más sobre 24 millones de archivos a la plataforma.

Hace solo unas semanas, Runway lanzó un nuevo producto, llamado “Green Screen”, herramienta que utiliza la tecnología de machine learning para automatizar el proceso de rotoscopía en videos y que permite transformar cualquier video en una pantalla verde con lo que los usuarios, profesionales o aficionados, pueden acceder a un significativo ahorro de tiempo y de recursos al momento de eliminar objetos del fondo de una composición ya sea en imagen o video.

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